一、噴粒位置
頂噴模式下，噴嘴位于設(shè)備的頂部，向下垂直而下，通過噴嘴將顆?；奈锪蠂姵?。
側(cè)噴模式下，噴嘴位于設(shè)備的側(cè)面，噴向流化床中的物料，使其顆?；?。
二、噴粒范圍
頂噴模式下，噴嘴與顆粒接觸的面積較小，只有噴嘴下方的顆粒能被噴粒，而噴嘴上方的物料則無(wú)法充分利用。
側(cè)噴模式下，噴嘴覆蓋面積較大，能夠?qū)崿F(xiàn)噴粒區(qū)域的均衡，顆?；Ч觾?yōu)良。
三、噴粒方式
頂噴模式下，噴嘴向下直接噴射物料，顆?；ЧQ于物料的落點(diǎn)和撞擊力。
側(cè)噴模式下，噴嘴通過噴射空氣將物料吹向噴粒區(qū)域，通過切向的噴射力產(chǎn)生流動(dòng)，增加了物料之間的摩擦，使得顆?；泳鶆?。
總體而言，側(cè)噴模式下的沸騰一步制粒機(jī)相對(duì)于頂噴模式下的沸騰一步制粒機(jī)具有更大的噴粒范圍、更優(yōu)良的顆?；Ч透叩牧６染取５窃趯?shí)際應(yīng)用中，不同情況對(duì)噴粒方式的選擇也會(huì)有所不同，需要根據(jù)實(shí)際需求做出選擇。
